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关闭窗口 第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议通知
(11th International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation & Deposition)
第一届等离子基离子注入与沉积国际会议（PBII&D）于1993年在美国召开，此后该会议多次召开并聚集了全世界PBII&D相关领域的科学家（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。现在，PBII&D国际会议已经成为等离子基加工技术领域持续时间最长，最有声誉的国际会议（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议(简称PBII&D 2011)将于2011年9月8~12日在我国黑龙江省哈尔滨市召开，同时举行相关产品的展览（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。会议组织单位——哈尔滨工业大学和先进焊接与连接国家重点实验室热烈欢迎您来哈尔滨做客（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。
本届国际会议（PBII&D2011）旨在提供一个PBII&D相关领域最新研究成果的交流与展示的机会，其主题主要包括等离子基离子注入与沉积、高功率脉冲磁控溅射、系统与工业应用、等离子体诊断、仿真与理论、纳米结构、材料表面加工与分析、半导体、类金刚石薄膜、生物材料、聚合物、表面物理、等离子源、离子束辅助沉积、离子束注入和等离子体氮化等（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。
一、组织委员会
大会主席：田修波（中国）
大会副主席：马欣新，黄楠（中国）
国际组织委员会主席：朱剑豪（中国香港）
出版委员会主席：Ken Yukimura（日本）
本地组织委员会主席：王浪平（中国）
秘书：巩春志，吴忠振（中国）
国际组织委员会：
朱剑豪（主席）, 中国
A. Anders，美国
M. Bilek，澳大利亚
N. W. Cheung，美国
黄楠，中国
S. Mandl，德国
B. Mizuno，日本
W. Moeller，德国
M. Nastasi，美国
J. Pelletier，法国
R. H. Wei，美国
K. Yukumura，日本
M. Ueda，巴西
本地组织委员会：
巴德纯，东北大学
陈 强，北京印刷学院
董 闯，大连理工大学
黄安平，北京航空航天大学
雷明凯，大连理工大学
冷永祥，西南交通大学
李德军，天津师范大学
李慕勤，佳木斯大学
李雪春，大连理工大学
李争显，西北有色金属研究院腐蚀所
梁荣庆，复旦大学
刘成森，辽宁师范大学
刘宣勇，中科院上海硅酸盐研究所
马胜利，西安交通大学
马欣新，哈尔滨工业大学
邵天敏，清华大学
田修波，哈尔滨工业大学
汪爱英，中科院宁波材料技术与工程研究所
王浪平，哈尔滨工业大学
待续......
二、会议主要内容
1. 等离子基离子注入与沉积（PBII&D）；
2. 高功率脉冲磁控溅射（HPPMS）；
3. 等离子基离子注入与沉积系统；
4. 等离子基离子注入与沉积工业应用；
5. 等离子基离子注入与沉积相关等离子体诊断；
6. 半导体处理；
7. 建模和理论研究；
8. 等离子基离子注入与沉积制备纳米结构；
9. 生物材料；
10. 等离子基离子注入与沉积材料表面加工与分析；
11. DLC和聚合物处理；
12. 等离子体和离子源；
三、邀请报告
朱剑豪 (香港，中国，大会报告)
丁传贤 (院士，中国，大会报告)
Mario Ueda (巴西)
Stephan.Maendl (德国)
雷明凯(中国)
K. Yukimura (日本)
R. H. Wei (美国)
Kousaka Hiroyuki (日本)
Chung ChinWook (韩国)
四、会议重要日期
1、摘要投稿截止日期：2011年4月30日
2、论文接受确认日期：2011年5月10日
3、预付注册费截止日期：2011年6月30日
5、论文提交截止日期：2011年9月12日
有关会议的详细信息请上网查询，网址为：http://www.pbiid2011.org
五、摘要、论文和论文集出版
论文摘要不少于250字，且不超过一页（A4纸）（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。需按会议模板准备摘要及全文，具体撰写要求与提交截止时间详见会议网址: http://www.pbiid2011.org
提交的论文通过同行专家评审后，将发表在SCI期刊（SCT和NIMB）作为专集出版，论文最大篇幅限为期刊页4页，每位注册参会者只接收一篇论文的投稿（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。
六、注册费
国内注册费：1200元 / 1500元（6月30日以后交）；
学生注册费：（需学校证明）800元 / 1000元（6月30日以后交）；
七、会议地点
八、口头报告和大字报展示
大会特邀报告为40分钟（含5分钟讨论）
邀请报告为30分钟（含5分钟讨论）
一般报告为20分钟（含5分钟讨论）
九、住宿
十、展览与赞助
本次会议（PBII&D 2011）不仅是从事离子注入领域研究人员的学术交流和成果展示的盛会，同样也是经营表面改性和真空行业的企业进行产品展示、赢得商机的难得机遇（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。参与本届会议的展览或赞助将有机会与国内外表面改性领域的顶尖科学家直接接触，赞助企业的名称、标识会以多种方式在会议中展现，将极大地帮助企业提升影响力、推广企业的产品及寻求合作机遇（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。
赞助回报内容主要包括如下：
1、大会主会上赞助企业的代表可进行演讲，宣传推介企业的代表性产品或技术（5分钟）；
2、展区内配置一个展示区；
3、现场滚动播放赞助企业宣传短片（注册报道时、开幕式开始前、茶歇时会场内外、晚宴时）；
4、在会议现场指定地点之一（注册区、茶歇区）的资料展示台放置企业宣传资料；
5、参会代表的资料包中插放一份企业宣传品；
6、会议专用网站上发布企业名称和标识，以及公司网址链接；
7、获得大会参会代表名录一份（包括代表姓名、单位及电子邮箱地址）；
8、免费获得大会参会名额（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。
赞助级别包括如下：
各个级别赞助商将享有相应的回报内容，详情请与我们联系接洽，欢迎贵单位前来参展与赞助（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。
赞助协议签署及付款：
赞助协议将直接由赞助方和哈尔滨工业大学焊接国家重点实验室巩春志签订，赞助回报执行以双方最终签署的协议为准（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。协议签署后三天内赞助方应支付赞助总金额的50%作为保证金，并汇至PBII&D2011会议指定账号（美元支付按照人民币美金6.4:1的固定汇率折算）（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。
欢迎贵公司及时来电或来函与我们联系（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。若同时对SMMIB2011会议进行赞助、参展（同一地点于2011年9月13~17日召开）将另有优惠（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。若有特殊要求，欢迎致电大会组委会秘书处，进行咨询和商洽（EnPapers 论文翻译、英文论文修改、SCI论文润色）。
十一、秘书处联系方式
秘书：巩春志，吴忠振
通讯地址：黑龙江省哈尔滨市哈尔滨工业大学材料科学与工程学院514室
邮编：150001
QQ：1586653511
Tel：0451-86418784； Fax：0451-86418784
| 会议时间 | 2011-09-08 至2011-09-12 |
| 会议地点 | 黑龙江省哈尔滨市 |
| 主办单位 | 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室 |
| 联系人 | 吴忠振 |
| 电话 | 045186418784 |
| pbiid2011@163.com | |
| 传真 | 045186418784 |
| 联系地址 | 哈尔滨工业大学材料学院514室 |
| 会议规模 | 100人以上 |
| 会议网址 | http://www.pbiid2011.org |
| 是否提供酒店预定服务 | 提供 |
| 是否提供机票预定服务 | 提供 |
| 是否提供火车票预定服务 | 提供 |
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